کاربردهای کاربید بور در صنعت نیمه هادی

۱. قطعات حامل ویفر برای فرآیندهای خلاء

1. سینی‌ها، حامل‌ها و پایه‌های ویفر کاربید بور برای کوره‌های آنیل، اکسیداسیون و انتشار در دمای بالا. انبساط حرارتی پایین از تغییر شکل در اثر حرارت بالا جلوگیری می‌کند و گرمایش یکنواخت ویفرها را تضمین می‌کند. ناخالصی‌های فلزی قلیایی بسیار کم از آلودگی مدارهای تراشه جلوگیری می‌کند. سازگار با ویفرهای سیلیکونی، زیرلایه‌های SiC و GaN.
2. بافل‌های موقعیت‌یابی و قطعات هدایت‌کننده، لبه‌های ویفر را از خراشیدگی در حین انتقال محافظت می‌کنند.
3. اتصالات داخلی کوره، براکت‌ها و آسترها برای کوره‌های LPCVD و دیفیوژن. مقاوم در برابر گازهای فرآیندی خورنده از جمله HCl، کلر و سیلان، تثبیت دقت آلایش.

۲. قطعات تجهیزات اچینگ و پوشش PVD/CVD

1. حلقه‌های فوکوس، حلقه‌های لبه و آسترهای محفظه برای اچینگ پلاسمای خشک. در برابر بمباران پلاسمای هالوژن و خوردگی مقاومت می‌کنند و اچینگ یکنواخت و پایدار را حفظ کرده و عمر مفید را افزایش می‌دهند.
2. اهداف پاشش کاربید بور: پوشش فیلم‌های محافظ روی مدارها، دستگاه‌های MEMS و هدهای مغناطیسی هارد دیسک برای افزایش مقاومت در برابر سایش و عملکرد ضد خوردگی.

۳. ساینده‌های دقیق لپینگ و پولیش

۴. کاشت یون و قطعات ضد تشعشع

۵. لوازم جانبی بسته‌بندی نیمه‌هادی

۶. حسگرهای دمای بالا و غلاف‌های ترموکوپل

۷. محافظت در برابر تابش نوترونی

مزایای کلیدی

1. مقاوم در برابر اسید هیدروفلوئوریک، پلاسمای هالوژن و اکثر مواد شیمیایی فرآیندی؛
2. محتوای ناخالصی کم از خرابی الکتریکی تراشه‌ها ناشی از آلودگی یونی جلوگیری می‌کند.
3. انبساط حرارتی پایین، ابعاد پردازش پایدار را در دماهای شدید تضمین می‌کند.
4. سختی بالا، ریزش ساینده و عیوب ذرات روی ویفرها را کاهش می‌دهد.

نمرات مشترک